独:独立创作、源自本人

 

 

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独立创作、源自本人的智力成果:1、从无到有;2、即便在先有,但确实是基于自身独立完成的,同样满足独创性的要求。著作权法并不排斥巧合。专利领域之所以会出现巧合,是因为发明创造必须基于自然规律,而自然规律是普适性的。但创作时源于作者的内心世界,没有规律可言,而且作者内心世界不可能存在完全相同的情况。

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独创性中的“独”:独立创作、源自本人

情形一:从无到有独立完成

              出现巧合与前人作品相同?著作权容忍巧合,但在现实生活中巧合几率不高。

情形二:在原作品基础之上进行创作,与原作品相比,具有可客观识别的变化——演绎作品

 

 

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出现巧合,(几率很小,与专利不同)与前人作品相同:

1.从无到有独立完成。

 

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不排斥巧合。

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独创性中的“独”

独:独立创作、源自本人

情形之一:从无到有  独立完成

情形之二:在原作品基础之上进行创作

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独:独立创作、源自本人

情形之一:从无到有独立完成

情形之二:在原作品基础之上进行创作

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第二节 独创性

一、独创性中的“独”

独:独立创作、源自本人

情形之一:从无到有独立完成

出现巧合,与前人作品相同?--确实独立完成,符合独创性的要求

理论上著作权法允许巧合的存在,但是实际上以巧合抗辩的成功性并不高

独创不能和首创画等号,但是可以画约等号

情形之二:在原作品基础之上进行创作(与原作品相比,具有可客观识别的变化)——演绎作品

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独创性

独:独立创作,源自本人1、从无到有  2、以原作品为基础进行创作(演绎作品)

现实中作品雷同、巧合的概率很低

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